Аппаратные комплексы для измерения параметров нелинейности показателя преломления стекол и кристаллов
Аннотация:
В работе представлены описания двух аппаратных измерительных комплексов для измерения параметров нелинейности показателя преломления стекол и кристаллов. Создание этих комплексов дало возможность реализовать комплексный подход к исследованию параметров нелинейности показателя преломления широкого класса твердотельных оптических сред, сочетающий прямой интерференционный метод импульсной регистрации интерферограмм лазерного излучения с пикосекундным временным разрешением и косвенный метод, основанный на нерезонансном смешении волн в исследуемом материале и состоящий в измерении на частоте 2ω1-ω2 интенсивности сигнала, возникающего при взаимодействии двух совмещенных во времени и в пространстве исследуемой среды волн с частотами ω1 и ω2.
Ключевые слова:
Постоянный URL
Статьи в номере
- Анализ рынка высших образовательных услуг
- Аппаратура космического патруля ионизирующего излучения Солнца
- Пути автоматизации контроля качества оптических поверхностей в реальном режиме времени
- Исследование нарушенных слоев полированной оптической поверхности и напряжений в клеевых и бесклеевых соединениях оптических элементов методом эллипсометрии
- Обобщенный анализ адекватности моделей оптико-физических явлений в природных и антропогенных объектах и информационных оптико- электронных системах спектрозонального мониторинга
- Обобщенный закон оптической шероховатости
- Системы управления мощных источников тока программируемой формы на основе транзисторных ШИП (принципы построения, анализ, синтез)
- Исследование и разработка новых методов компьютерного моделирования работы оптических систем
- Исследование принципов и разработка модели формирования оптической системой цветного изображения на матричных приёмниках
- Неразрушающие методы исследования стереометрии и внутренних дефектов оптического волокна для элементной базы микроэлектроники и микропроцессорной техники
- Анизотропия поглощения и люминесценции оптических центров в эрбиевых стеклах для усилителеи
- Разработка средств автоматизации построения объектно-ориентированных программ с явным выделением состоянии
- Дифракционная модель квазинепрерывного твердотельного лазера с продольной диодной накачкой и активной модуляцией добротности
- Методы сегментации изображений на основе анализа и модификации локальных гистограмм
- Анализ оптико-электронной системы обнаружения крупногабаритных объектов при их спектрозональной импульсной оптической локации в условиях инерционного приема с квазиоптимальной фильтрацией отраженных сигналов
- Исследование особенностей взаимодействия оптического излучения с элементами лазерных систем и биологическими объектами
- Применение фемтосекундного лазерного излучения для исследования спектральной селективности объемных голограмм
- Обратные волны и отрицательная рефракция в электромагнитных кристаллах
- Динамика поля и спектров световых импульсов предельно коротких длительностей в нелинейных средах
- Самофокусировка световых сгустков с продольными и поперечными размерами в несколько длин волн
- Исследование возможности диагностики качества мясных продуктов на основе спектров люминесценции
- Закономерности диффузии фазы одномодового мазера, обнаруживаемые в процессе квантовых измерении
- Современные объективные методы оценки параметров переднего отдела глаза
- Современные методы оптической коррекции сложных аномалий рефракции
- Исследование методов изготовления покрытий, создающих волновой фронт излучения для формирования лазерных пучков с предельной пространственной локализациеи
- Установка для измерения параметров мягких контактных линз в термостабилизированных условиях
- Формообразование плоских поверхностей методом поверхностного притира
- Исследование свойств плёнкообразующих материалов для ультрафиолетовой области спектра
- Асимптотический подход в исследовании свойств слабо связанных квантовых волноводах
- Роль плотности потока мощности (ППМ) и времени воздействия в выборе адекватных доз влияния ИК-излучения на одноклеточные организмы
- Метрологическое обеспечение контроля лучевой прочности оптических материалов.