Зависимость параметров паразитного наноструктурирования рельефно-фазовых голограммных структур на тонких пленках халькогенидного стеклообразного полупроводника от высоты их рельефа
Аннотация:
Приведены результаты экспериментального исследования влияния высоты рельефа отражательных рельефно-фазовых голограмм, получаемых на слоях халькогенидного стеклообразного полупроводника (ХСП), на параметры паразитной наноструктуризации их поверхности. Работа выполнена с помощью сканирующего зондового микроскопа Solver P-47. Установлена коротковолновая граница применимости отражательных рельефно-фазовых голограмм, получаемых на тонких слоях ХСП без какой-либо апо- стериорной обработки, равная 80 нм. Начиная с нее, голограммы, характеризующиеся высотой рельефа, оптимальной с точки зрения максимальной дифракционной эффектив- ности, удовлетворяют по параметру среднеквадратичной шероховатости их поверхности σ критериям Марешаля σ ≤ λ/27 и допустимого светорассеяния σ ≤ λ/100 и тем самым обеспечивают в восстановленном с их помощью изображении допустимый для прецизионных оптических систем уровень светорассеяния и аберраций.
Ключевые слова:
Постоянный URL
Статьи в номере
- Оценка основных параметров волноводного микрорезонаторного преобразователя ИК изображений.
- Новые технологические волноводные СО2 -лазеры киловаттного уровня мощности с высоким качеством излучения
- Нелинейное и наведенное электронным пучком поглощение в чистых кварцевых стеклах на длинах волн эксимерных лазеров
- Исследование воздействия излучения 193 нм и 223 нм эксимерных лазеров на роговицу глаза человека в рефракционной хирургии
- Выбор оптической схемы и расчет малогабаритных объективов для мобильных телефонов
- Разработка оптического датчика для локального мониторинга загрязнения воздуха в Мехико
- Реконструкция смазанных и зашумленных изображений без использования граничных условий
- Исследование термостабильности зеркального телескопа – солнечного лимбографа в режиме непрерывного наблюдения за Солнцем
- Развитие теории Карда для металлодиэлектрических фильтров
- Просветляющие покрытия на подложках из германия и кремния в окнах прозрачности ИК области спектра 3–5 мкм и 8–12 мкм
- Эллипсометрические исследования особенностей формирования пленок HfO2 на оптическом стекле
- Свойства многокомпонентных ахроматических и суперахроматических волновых пластинок нулевого порядка