Analysis of Fabrication Tolerance Based on Uneven Thickness of Su8-photo-resist
Аннотация:
In this paper, we have analyzed the relationship between light propagation performance and uneven thickness of Su8-photo-resist based on EOPCB. Although spinning process is used to even the Su8-photo-resist, the obtained Su8-photo-resist is uneven, which directly affect cross-section shape of core layer. As long as we control h e [0,3 mm] and a, b e [0,2 mm], light propagation performance does not affected. But, it is easy to actually fabricate EOPCB.
Ключевые слова:
Постоянный URL
Статьи в номере
- Проводимость и фотопроводимость гранулированной плёнки серебра на сапфировой подложке
- Динамика сильно поля светового импульса из малого числа колебаний при возбуждении плазмы в диэлектрической среде
- Оптические устройства виртуальных дисплеев
- Использование призменных элементов для построения плоских волноводных экранов
- Аналитическая методика расчета тепловых потоков в околоземном пространстве, формирующих тепловой режим космических телескопов
- Оптическое приборостроение для микроэлектроники
- Метод генерации амплитудных масок с постоянными спектрами мощности и их использование для измерения двумерных модуляционных передаточных функций оптических систем
- Оценка влияния динамического диапазона и шумов регистрирующих камер на качество цифровых голограмм
- Исследование одномодового режима работы микроструктурированных световодов с каналами вытекания излучения
- Быстрый обзор круговой зоны инфракрасной сканирующей системой с матричным фотоприемным устройством
- Интерферометр фазового сдвига для контроля плоских и сферических оптических деталей
- Влияние технологических факторов на предельные характеристики неодимовых фосфатных стекол для крупногабаритных дисковых и стержневых активных элементов
- Использование Tm:YLF лазера для определения коэффициента диффузии хрома в ZnSe
- Решение Девятого съезда Оптического общества им. Д.С. Рождественского
- Книга "Оптика России. Очерки истории и развития"