<p>Фотополимеризуемые композиции, обеспечивающие модуляцию показателя<br /> преломления в процессе интерференционной литографии, в настоящее время являются<br /> быстро развивающимся классом материалов, поскольку они технологичны, обладают<br /> высокой светочувствительностью, широким диапазоном показателей преломления и низкой<br /> стоимостью. Исходя из вышесказанного, фотополимерные композиты становятся<br /> перспективными материалами для изготовления голографических дифракционных элементов<br /> [1]. Фотополимерные композиты обычно представляют собой гомогенную смесь, состоящую<br /> из различных фотоотверждаемых мономеров и фотоинициатора полимеризации. В последнее<br /> время для улучшения характеристик голографических нанокомпозитов в мономерную смесь<br /> стали вводить различные наночастицы. Голографическая запись осуществляется посредством<br /> фотоиндуцированной модуляции показателя преломления происходящей в результате<br /> периодического изменения состава и плотности при фотополимеризации мономеров и<br /> одновременной взаимной диффузией компонент при записи интерференционной картины [1].</p>