<p>При современной тенденции перехода к интегральным оптическим устройствам особое<br /> значение приобретает выяснение слабо изученных явлений в тонкослойных структурах.<br /> Задачи, касающиеся уменьшения коэффициента отражения от металлических поверхностей,<br /> ранее были мало изучены, отдавались предпочтения ставшими «классическими» методами,<br /> например, методу нанесения четвертьволновых диэлектрических слоев. Развитие новых<br /> технологий, разработка более сложных конструкций, появление более точных методов<br /> контроля оптических характеристик позволили создавать очень тонкие слои, которые смогут<br /> вносить свой вклад в выходные характеристики будущих многослойных покрытий.<br /> Металлодиэлектрические системы могут использоваться в качестве пропускающих и<br /> отражающих фильтров, защитного покрытия для оптических волноводов от различных помех<br /> и «ложных сигналов», покрытий, повышающих эффективность солнечных батарей и<br /> преобразователей.</p>