<p>В настоящее время для защиты полимерных оптических материалов используют<br /> специальные защитные лаки, некоторые из них требуют полимеризации при помощи<br /> излучения с длиной волны около 240 нм. Свойства фотополимеризуемых защитных лаков<br /> близки к свойствам позитивных фоторезистов применяемых при литографии.<br /> Особенностью таких лаков является то, что с их помощью возможно создание на<br /> поверхности полимера пленки с упорядоченной структурой. Такая структура повторяет образ<br /> маски, которая была использована при засветке пленки. Так же имеется возможность<br /> использовать для засветки лака различные уровни интенсивности, получаемые при<br /> интерференции света.</p>