Журнал
Научно-технический вестник информационных технологий, механики и оптики
УДК:
Номер:7 (52)
Скачать PDF0 Кбайт
Приведены результаты исследований процесса формирования микроструктур в УФ-отверждаемых нанокомпозиционных материалах методом глубокой литографии (deep lithography). Исследован эффект расширения области фотополимаризации за пределы точки экспонирования при уменьшении относительного расстояния между формируемыми элементами.