Новые тенденции регулирования фторированных хладагентов в индустрии холода
Аннотация:
Современные тенденции и стратегия развития техники низких температур оказались в центре дискуссии, прозвучавшей на Международной конференции в стенах Университета ИТМО в Санкт-Петербурге 4 февраля 2015 г. Необходимы современные решения и технологии в индустрии холода, отвечающие требованиям Монреальского протокола по устранению с 1996 и 2020 годов озоноразрушающих и парниковых газов, прежде всего хлорфторуглеводородов и гидрохлорфторуглеродов. В рамках Монреальского протокола предполагается постепенный вывод из обращения фторированных углеводородов. Рассмотрены условия перехода на фторированные хладагенты с низким потенциалом глобального потепления: энергоэффективность, изучение теплофизических свойств, снижение утечек и уменьшение количества хладагента в системе, проблемы безопасности и новые технологии на их основе. Необходимы интенсивное развитие научных исследований в университетах и стратегические инициативы компаний по их реализации.
Ключевые слова:
Постоянный URL
Статьи в номере
- Условия минимизации теплоты в холодный период года
- Применение правила Максвелла для поиска термодинамических величин на линии насыщения
- Энергосбережение с применением утилизаторов теплоты
- Оптимизационные задачи, связанные с обеспечением параметров воздушной среды в объекте
- Процессы обработки воздуха в системах кондиционирования воздуха
- Определение точки впрыска охлаждающей жидкости в винтовом компрессоре
- Теплоиспользующая холодильная установка транспортного средства для хранения и перевозки продуктов питания
- Оценка технико-экономических параметров проектного решения системы кондиционирования
- Уравнение линии упругости хладагента R236EA
- Методика расчета характеристик мобильных демпферов для использования на пластинчатых конструкциях холодильных машин
- Анализ процессов теплообмена в ступени высокооборотного поршневого детандера
- Оценка влияния влажности воздуха на качество микроклимата в зале ледового катка и на состояние ледовой поверхности