Журнал
Научно-технический вестник информационных технологий, механики и оптики
УДК:
Номер:4 (49)
Скачать PDF0 Кбайт
Для обеспечения прогресса развития микроэлектроники и достижения минимального размера элемента микросхемы на уровне 10 нм необходимо разрабатывать средства контроля повышенной точности. Показано, что основной задачей, решение которой необходимо для обеспечения производства элементов проекционных объективов, является создание средств контроля, обеспечивающих корреляцию между контрольной и рабочей длиной волны в глубоком вакуумно-ультрафиолетовым диапазоне. Описан интерферометр для исследования волновых аберраций с дифракционной волной сравнения.