Например, Бобцов

АНАЛИЗ ПРОЦЕССА НАПЫЛЕНИЯ ТОНКИХ ПЛЕНОК В ВАКУУМНЫХ КАМЕРАХ МЕТОДОМ HiPIMS

Аннотация:

Обсуждается проблема создания отечественной высоконадежной элементной базы микросистемной техники, в которой широко применяются тонкие пленки при производстве микроэлектромеханических систем. Рассматривается метод HiPIMS, используемый для получения тонких пленок в вакуумных камерах при газовом разряде. Представлены разработанные стенд для анализа газового разряда и зонд, обеспечивающий получение данных для построения вольт-амперных характеристик этого разряда. В среде MatLab разработано программное обеспечение, позволяющее корректно обрабатывать полученные вольт-амперные характеристики. Установлены параметры, влияющие на режим магнетронного напыления (напряжение, частота и скважность импульса), которые позволяют управлять процессом напыления тонких пленок.

Ключевые слова:

Статьи в номере