Например, Бобцов

Зависимости интенсивности полос поглощения в высокочистых кварцевых стеклах от флюенса электронного пучка

Аннотация:

Для изучения образования дефектов в кварцевых стеклах типа КС-4В, КУ-1 и Корнинг 7980 под действием электронного пучка использован метод разложения спектров наведенного поглощения на индивидуальные полосы с максимумами на длинах волн 163,5, 183,5, 213, 225, 244 и 260 нм. У всех стекол интенсивности большинства индивидуальных полос с ростом флюенса электронного пучка насыщались при дозах около 90 МГр. Величина стационарного поглощения на 260, 213 и 183 нм у КС-4В была в 2–4 раза меньше, чем у КУ-1. Интенсивности полос на 163 нм у этих стекол практически совпадали и монотонно возрастали с ростом флюенса электронного пучка. Это говорит об ударном механизме наработки кислороддефицитных центров, ответственных за эту полосу.

Читать текст статьи

Ключевые слова:

Статьи в номере