Магнитореологическое полирование оптических поверхностей
Аннотация:
В работе обсуждается широко используемый в производстве точной оптики принцип магнитореологического (МР) полирования, а также приведены результаты обработки оптических деталей сложной формы. В теоретической части, применительно к методу МР полирования, рассматривается концепция уноса материала с обрабатываемой поверхности, основанная на принципе сохранения импульса частицами бинарной абразивной суспензии. Согласно предлагаемой модели нормальные к поверхности силы, требуемые для внедрения абразивных частиц в полируемый материал, обеспечиваются за счет их взаимодействия у поверхности с более массивными базисными (магнитными) частицами, которые в сдвиговом потоке концентрированной суспензии подвержены флуктуациям и обмениваются импульсом с абразивными частицами.
Ключевые слова:
Постоянный URL
Статьи в номере
- Формирование штарковского эха при различной взаимной ориентации внешних нерезонансных лазерных полей с пространственной неоднородностью
- Моделирование распространения излучения в неоднородных средах с использованием вычислений на графических процессорах
- Оптимизация процесса генерации второй гармоники излучения ТЕА СО2-лазера в кристалле ZnGeP2
- Статистические характеристики спеклованных изображений рассеянного лазерного пучка в фокальной плоскости приемного объектива
- Установление закономерностей и моделирование диффузионного режима хаотической генерации в сильно рассеивающих средах
- Gain Flattening of DWDM Channels for the Entire C & L Bands. Выравнивание усиления в каналах DWDM в полных полосах С и L
- Варианты композиции высокоапертурного зеркального объектива компактной конструкции
- Методика получения цифровых моделей участков тела человека с использованием лазерных 3D-сканеров Handyscan 3D REVscan и Konica Minolta VI 910
- Распределение излучения иммерсионных светодиодов с длиной волны 3,4 мкм в дальнем поле
- Увеличение углов обзора в дисплеях на основе жидких кристаллов. Обзор
- Дифракционный метод контроля углового распределения волокон в структуре плоского волокнистого материала
- Оптические материалы для вакуумного испарения на основе оксидов металлов
- Узкополосные флуоресцентные фильтры на парах цезия
- Повышение двулучепреломления в анизотропных одномодовых волоконных световодах с эллиптичной напрягающей оболочкой