Эллиптичность поперечного сечения стеклянного капилляра, сформированного перетяжкой цилиндрической трубы-заготовки
Аннотация:
Экспериментально исследовано влияние на эллиптичность поперечного сечения вытягиваемого капилляра двух технологических параметров - азимутальной неоднородности толщины стенки (разнотолщинности) трубы-заготовки и азимутальной неоднородности температурного поля высокотемпературной печи. В экспериментах использовали тонкостенные трубы из электровакуумного стекла марки СЛ-97-1. Установлено, что при использовании печи с азимутально-однородным температурным полем разнотолщинности капилляра и трубы-заготовки совпадают, независимо от «подсхлопывания» (неполного схлопывания) трубы-заготовки при ее перетяжке в капилляр. Эллиптичность же вытягиваемого капилляра, напротив, зависит от «подсхлопывания», возрастая при его увеличении. Азимутальноя неоднородность температурного поля приводит к заметной эллиптичности поперечных сечений даже в капиллярах, вытянутых из труб-заготовок с малой разнотолщинностью.
Ключевые слова:
Постоянный URL
Статьи в номере
- Оптический метод и аппаратура для дезинтоксикации отравляющего действия угарного газа
- Оптический фильтр с угловой селективностью светопропускания
- Применение кратномасштабного анализа для расширения динамического диапазона цветных эндоскопических изображений
- Аберрации объемного голограммного оптического элемента, полученного с помощью цилиндрической объектной и сферической опорной волн
- Физические основы расчета интерферометра с вращающейся пластинкой
- Исследование возможности уменьшения угловых погрешностей круговых оптических шкал, изготовленных способом обратной фотолитографии
- Performance Evaluation of an optical network based on Optical Cross Add Drop Multiplexer Оценка характеристик оптической сети связи на базе оптических кросс-коммутаторов со спектральным мультиплексированием
- Влияние температуры на люминесценцию молекулярных кластеров серебра в фото-термо-рефрактивных стеклах
- Эллипсометрические исследования природной оксидной пленки на поверхности теллурида кадмия.
- Диагностика направления температурного ухода по асимметрии полос в отражающем интерферометре
- Формирование покрытий при одновременном испарении двух диэлектриков