Контроль оптических толщин осаждаемых слоев непосредственно на рабочих образцах в процессе роста
Аннотация:
Проведен анализ ошибок фотометрического контроля толщин слоев при вакуумном напылении многослойных интерференционных систем. Показано, что при контроле толщин растущего слоя по изменению спектральной характеристики пропускания (отражения) в определенном интервале длин волн погрешность измерения сигнала не более 1% приводит к существенным ошибкам контроля толщин осаждаемых сло-ев. В случае контроля сквозным методом на расчетных фиксированных длинах волн ошибки менее значительны. Предложена оптическая система, позволяющая проводить контроль толщины слоев покрытия в процессе их нанесения по отражению непосред-ственно по рабочим деталям или свидетелю, расположенному рядом с деталями на куполе вращения.
Ключевые слова:
Постоянный URL
Статьи в номере
- Нелинейные оптические свойства фуллерен-порфириновых комплексов
- Медицинские применения лазеров среднего инфракрасного диапазона. Проблемы и перспективы
- Трехзеркальный объектив телескопа без экранирования
- Анализ и синтез зеркально-линзовых резонаторов
- Построение систем локальных инвариантных признаков изображения на основе преобразования Фурье–Меллина
- Программный комплекс для синтеза и цифрового восстановления голограмм-проекторов: влияние параметров синтеза на качество восстановленного изображения
- Обеспечение целевых показателей качества при автоматизации сборки микрообъективов
- Факторы, ограничивающие срок службы отпаянных эксиплексных ламп барьерного разряда, содержащих хлор
- Формирование наноразмерных MgO-покрытий на поверхности стекла
- Люминесцентные и сцинтилляционные свойства оптической керамики Gd2O2S:Eu
- Разработка микроструктурированных световодов с большой сердцевиной и исследование их оптических свойств
- Исследование полированных поверхностей халькогенидов цинка путем компьютерного распознавания дефектов на микрофотографиях
- Нарушение изотропности диффузного излучения вследствие его дифракции на многомерных регулярных структурах