ИСПОЛЬЗОВАНИЕ АЛГОРИТМА «ИМИТАЦИИ ОТЖИГА» ДЛЯ ОПТИМИЗАЦИИ ПАРАМЕТРОВ ИСТОЧНИКА ОСВЕЩЕНИЯ ФОТОЛИТОГРАФИЧЕСКОЙ УСТАНОВКИ
Аннотация:
Предмет исследования. Рассмотрены методы повышения разрешающей способности, стабильности и повторяемости фотолитографического процесса с применением источника освещения сложной формы. Показаны пути оптимизации формы источника освещения фотолитографической установки для использования с конкретными масками или группами масок.Методы. Для оптимизации «имитации отжига» применен стохастический алгоритм для периодических масок с различным периодом. В качестве оценочных функций оптимизации использованы контраст периодических масок с различным периодом (включая «запрещенный»), а также площадь эллиптического окна процессов фотолитографической установки. Исследования выполнены с использованием программы Sentaurus Lithography (Synopsys Inc). Основные результаты. В качестве примера показан процесс оптимизации масок с периодом 150–300 нм при длине волны 193 нм и апертуре оптической системы 0,93. Рассмотрен случай работы алгоритма оптимизации при добавлении различных значений расфокусировки и дозы экспозиции. Показано, что предложенный способ оптимизации формы источника освещения позволяет повысить контраст для масок различного периода, а также площадь окна процессов фотолитографической установки. Исследование сходимости алгоритма показало, что для оптимизации источника с заданной маской периодом 600–800 нм достаточно 100 итераций, а дальнейшее увеличение количества итераций не приводит к увеличению контраста. Практическая значимость. Предложенный алгоритм может быть использован в качестве замены более сложным алгоритмам оптимизации источника с целью уменьшения минимального размера элемента и повышения стабильности процесса. Алгоритм обладает высокой сходимостью.
Ключевые слова:
Постоянный URL
Статьи в номере
- ИСПОЛЬЗОВАНИЕ ФИЗИЧЕСКОГО ОБЪЕКТНО-ОРИЕНТИРОВАННОГО МОДЕЛИРОВАНИЯ ДЛЯ РАЗВИТИЯ ИНДИВИДУАЛИЗИРОВАННОГО ОБУЧЕНИЯ И ОРГАНИЗАЦИИ МИНИ-ИССЛЕДОВАНИЙ В КУРСАХ МЕХАНИКИ
- ВЗАИМОДЕЙСТВИЕ ФЕМТОСЕКУНДНОГО ЛАЗЕРНОГО ИЗЛУЧЕНИЯ С КОЖЕЙ: МАТЕМАТИЧЕСКАЯ МОДЕЛЬ
- ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ВОПРОСЫ ИЗГОТОВЛЕНИЯ КВАРЦЕВЫХ СВЕТОВОДОВ С ЦЕНТРАЛЬНЫМ ГАБАРИТНЫМ ДЕФЕКТОМ ГРАДИЕНТНОГО ПРОФИЛЯ ПОКАЗАТЕЛЯ ПРЕЛОМЛЕНИЯ ДЛЯ СЕНСОРОВ ВОЛОКОННО-ОПТИЧЕСКИХ ДАТЧИКОВ НА МАЛОМОДОВЫХ ЭФФЕКТАХ
- МЕТОД ПРОЕКТИРОВАНИЯ СЛОЖНЫХ ОБЪЕКТИВОВ ПО ЧАСТЯМ
- ФОТОМЕТР-КОЛОРИМЕТР НА ОСНОВЕ ИНТЕГРИРУЮЩЕЙ СФЕРЫ С ВНУТРЕННИМ ЭКРАНОМ И ОПТОЭЛЕКТРОННЫХ RGB-КОМПОНЕНТОВ
- ИЗМЕРИТЕЛЬ ЭНЕРГИИ ИМПУЛЬСОВ ЭКСИМЕРНОГО ЛАЗЕРА НА ОСНОВЕ ФОТОЭЛЕКТРИЧЕСКОГО ЭФФЕКТА ПЛЕНОК ОКСИДА ИНДИЯ-ОЛОВА
- РЕФРАКТОМЕТРИЧЕСКИЙ МЕТОД ИССЛЕДОВАНИЯ УРОВНЯ ПРОТЕИНЕМИИ И ЭЛЕКТРОЛИТНЫХ НАРУШЕНИЙ В СЫВОРОТКЕ КРОВИ БОЛЬНЫХ МНОЖЕСТВЕННОЙ МИЕЛОМОЙ
- ВЛИЯНИЕ СОБСТВЕННЫХ ВЕКТОРОВ НА ТРАЕКТОРИИ ДИСКРЕТНЫХ СИСТЕМ С ЗАДЕРЖКОЙ СИГНАЛА УПРАВЛЕНИЯ
- ИССЛЕДОВАНИЕ ВЛИЯНИЯ ВЫСОКОЧАСТОТНЫХ ЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПОЛЕЙ НА ЖИЗНЕДЕЯТЕЛЬНОСТЬ МИКРООРГАНИЗМОВ ПРИ РАЗЛИЧНОЙ ТЕМПЕРАТУРЕ
- ТЕПЛОФИЗИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА ПОЛИМЕРНЫХ КОМПОЗИЦИОННЫХ МАТЕРИАЛОВ
- ОЦЕНКА ЕМКОСТИ НАКОПИТЕЛЕЙ ВЫСОКОНАГРУЖЕННЫХ СИСТЕМ С ПРИОРИТЕТАМИ
- СТОРОЖЕВЫЕ МЕХАНИЗМЫ ВО ВСТРАИВАЕМЫХ ВЫЧИСЛИТЕЛЬНЫХ СИСТЕМАХ
- ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ ЭЛЕКТРОННОЙ СТРУКТУРЫ КОМПЛЕКСА В ПРИБОРОСТРОЕНИИ
- ОБЪЕКТНО-ПРОЦЕССНАЯ МОДЕЛЬ ДАННЫХ В УПРАВЛЯЮЩИХ ИНФОРМАЦИОННЫХ СИСТЕМАХ
- ЧИСЛЕННОЕ МОДЕЛИРОВАНИЕ ПРОЦЕССА ОХЛАЖДЕНИЯ МЕТАЛЛИЧЕСКОГО ЦИЛИНДРА ПОТОКОМ ГАЗОЖИДКОСТНОЙ СРЕДЫ, ДВИГАЮЩИМСЯ ГОРИЗОНТАЛЬНО В КОЛЬЦЕВОМ КАНАЛЕ
- АНАЛИЗ И ОЦЕНКА ФАКТОРОВ, ОПРЕДЕЛЯЮЩИХ ТОЧНОСТЬ РЕЗУЛЬТАТОВ КОМПЬЮТЕРНОГО МОДЕЛИРОВАНИЯ ЭКРАНИРУЮЩИХ СВОЙСТВ КОРПУСОВ УСТРОЙСТВ
- МОДЕЛИРОВАНИЕ ПОЖАРА ПАССАЖИРСКОГО ПОЕЗДА В ЖЕЛЕЗНОДОРОЖНОМ ТОННЕЛЕ
- ПОДДЕРЖКА ПРИНЯТИЯ РЕШЕНИЙ НА ОСНОВЕ ИМИТАЦИОННОГО МОДЕЛИРОВАНИЯ
- МОДЕЛИРОВАНИЕ НАПРЯЖЕННО-ДЕФОРМИРОВАННОГО СОСТОЯНИЯ ЛИНЕЙНО УПРОЧНЯЮЩЕГОСЯ КОНУСНОГО ЭЛЕМЕНТА АМОРТИЗИРУЮЩЕГО УСТРОЙСТВА
- ИНТЕРАКТИВНЫЕ ЭЛЕКТРОННЫЕ ДИДАКТИЧЕСКИЕ СРЕДСТВА С КОГНИТИВНОЙ ВИЗУАЛИЗАЦИЕЙ
- СИСТЕМА НАВИГАЦИИ И УПРАВЛЕНИЯ ДВИЖЕНИЕМ МОБИЛЬНЫМ РОБОТОМ
- КОНТРОЛЬ И БЕЗОПАСНОСТЬ ФУНКЦИОНИРОВАНИЯ ДУБЛИРОВАННЫХ КОМПЬЮТЕРНЫХ СИСТЕМ