Оптические константы эпитаксиальных пленок оксида цинка, выращенных на кремнии с буферным нанослоем карбида кремния
Аннотация:
Впервые получены толстые эпитаксиальные слои (порядка 2–3 мкм) оксида цинка без трещин на кремниевой подложке. С этой целью использовался буферный слой монокристаллического карбида кремния толщиной 100 нм, который осаждался методом твердофазной эпитаксии. При этом в кремнии образуется слой с порами и вакансиями, обеспечивающий частичную релаксацию упругих напряжений. Измерены оптические константы эпитаксиальных слоев оксида цинка на кремнии. Основной особенностью полученных эллипсометрических спектров является поглощение света в области 2,0–3,3 эВ, что объясняется упругими напряжениями в слое оксида цинка.
Ключевые слова:
Постоянный URL
Статьи в номере
- Предисловие выпускающих редакторов
- Optical investigation of photo-bleaching effects in organic Alq3 thin films
- Optical modelling of an Alq3-based organic light-emitting diode
- Фото- и электролюминесцентные свойства комплексов европия с лигандами, включенными в цепь поли-N-винилкарбазола
- Нитриды алюминия и галлия на кремниевой подложке с промежуточным нанослоем карбида кремния для приборов ультрафиолетового диапазона излучения
- Устройства подсветки на основе композиционных светоизлучающих диодов для высокояркостных многофункциональных активноматричных жидкокристаллических экранов
- Синтез порошкового люминофора SrS:Pr белого цвета свечения
- Свойства радиолюминесцентных источников для фотометрии
- Применение метода Вентцеля–Крамерса–Бриллюэна для анализа пропускания и отражения света слоем жидкокристаллических капель, диспергированных в полимерной матрице
- Влияние режима формирования и состава полимерно-жидкокристаллического композита на дифракционную эффективность голографических поляризационных решеток
- Методы управления оптическими свойствами пористых пленок, заполненных нематическим жидким кристаллом
- Получение и физико-химические свойства гидрофобного концентрата наночастиц серебра
- Памяти Кусиэля Соломоновича Шифрина