Статья НОВЫЙ МЕТОД ФОРМИРОВАНИЯ ЛИТОГРАФИЧЕСКОЙ МАСКИ ИЛИ РЕЛЬЕФА НЕПОСРЕДСТВЕННО В ПРОЦЕССЕ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОГО ЭКСПОНИРОВАНИЯ РЕЗИСТА Жихарев Е.Н., Кальнов В.А., Спирин А.В., Стрельцов Д.Р.