Разложение фотограмметрической дисторсии по ортогональным полиномам Цернике
Аннотация:
Предложены модель фотограмметрической дисторсии и математический аппарат ее определения по измеренным величинам поперечных аберраций. Приведено описание рассмотренной дисторсии с помощью ортогональных полиномов Цернике.
Ключевые слова:
Постоянный URL
Статьи в номере
- Предисловие выпускающих редакторов
- Взаимосвязь аберраций широкого пучка лучей
- Одно- и двухкомпонентные объективы, окуляры и конденсоры с асферическими поверхностями второго порядка
- Исследование исходных систем ортоскопических астрономических объективов в спектральном диапазоне 0,2—1 мкм
- Модульное проектирование зеркально-линзового объектива
- Аналитический метод оценки влияния конструктивных параметров на характеристики оптических систем
- Синтез силовых компонентов широкоугольных объективов
- Усовершенствованный универсальный метод габаритного расчета центрированных оптических систем
- Предельные возможности интерференционной фотолитографии, реализуемой в видимой области спектра на тонких слоях халькогенидного стеклообразного полупроводника
- Исследование способов дискретизации источника при моделировании фотолитографического изображения
- Использование программного комплекса ZEMAX для формирования фотометрических моделей светодиодных осветительных приборов
- Варианты композиции зеркально-линзового объектива на основе зеркальной системы объектива Грегори
- Компьютерное моделирование при изучении дисциплин, связанных с расчетом оптических систем
- Особенности расчета офтальмологических линз
- Юрий Михайлович Голубовский (к 80-летию со дня рождения)
- Судьбы оптики и Государственного оптического института (ГОИ) в России