Влияние перефокусировки изображения на структуру осевого пучка лучей
Аннотация:
Непременным условием коррекции аберраций широкого пучка лучей является соблюдение условия синусов, что в общем случае противоречит условию сохранения стигматичности изображения осевой точки предмета при ее смещении вдоль оптической оси из расчетного положения. Получены выражения, определяющие возникающую при этом сферическую аберрацию.
Ключевые слова:
Постоянный URL
Статьи в номере
- Основные погрешности контроля соосности с помощью авторефлексионной оптико-электронной системы
- Физическое моделирование двухволнового метода измерений в авторефлексионной оптико-электронной системе контроля смещений
- Геометрические и оптические свойства афокальной двухзеркальной системы
- Разработка алгоритма и программы для расширения возможностей метода оценки качества изображения оптических систем
- Разработка и исследование интерферометра на основе схемы Ронки и программного обеспечения для расшифровки интерферограмм
- Исследование возможности построения трехкоординатной анаморфозной системы измерения параметров угловой пространственной ориентации
- Аберрационная структура пятна рассеяния в изображении точки при децентрировке элементов оптической системы
- Современные тенденции в оптических технологиях, применяемых для улучшения выходных характеристик оптических и оптико-электронных систем
- Новые разработки научной и медицинской аппаратуры на Красногорском заводе им. С.А. Зверева
- Разработка лазерных дальномеров-биноклей на Красногорском заводе им. С.А. Зверева
- Новый подход к разработкам оптико-электронных средств мониторинга околоземного космического пространства
- Акустооптический метод спектрально-поляризационного анализа изображений
- Получение особо чистых химических материалов для процессов химического, плазмохимического и пиролитического осаждения тонких оксидных слоев
- Совершенствование технологии сборки высококачественных призменных модулей методом глубокого оптического контакта
- Многоканальный прибор для дистанционной диагностики технического оборудования
- Панкратические прицелы с автоматической установкой углов прицеливания для современных снайперских комплексов
- Перспективы развития оптических систем для нанолитографии
- Защита от прямых засветок в системе звездного астрографа для Межпланетной стереоскопической обсерватории
- Оптико-электронная система для контроля смещений на основе реперных меток излучающих диодов
- Экспериментальное исследование реакции фоточувствительных элементов оптико-электронных приборов на импульсную засветку
- Дифференциальные рефрактометры для анализа прозрачных сред
- Сравнение температурных и электрических методов управления длиной волны излучения полупроводниковых лазеров