Оптический фильтр с угловой селективностью светопропускания
Аннотация:
Представлен оптический фильтр с тонкопленочными решетчатыми слоями на обеих поверхностях стеклянной листовой подложки. Макроскопические решетки образованы чередующимися пропускающими и поглощающими полосами субмиллиметровых ширин. Их относительное расположение на поверхностях фильтра обеспечивает угловую селективность светопропускания - часть излучения, прошедшего через входную макро-решетку, дополнительно блокируется выходной макро-решеткой в зависимости от угла падения. Коэффициенты направленного светопропускания фильтров с разными параметрами рассчитаны графоаналитическим методом. Средние отклонения экспериментальных данных для образцов этих фильтров в диапазоне углов падения 0-60° не превышают 4%, максимальные — 5,6% . Рассмотрена возможность применения в архитектурном остеклении оптических фильтров с угловой селективностью светопропускания.
Ключевые слова:
Постоянный URL
Статьи в номере
- Оптический метод и аппаратура для дезинтоксикации отравляющего действия угарного газа
- Применение кратномасштабного анализа для расширения динамического диапазона цветных эндоскопических изображений
- Аберрации объемного голограммного оптического элемента, полученного с помощью цилиндрической объектной и сферической опорной волн
- Физические основы расчета интерферометра с вращающейся пластинкой
- Исследование возможности уменьшения угловых погрешностей круговых оптических шкал, изготовленных способом обратной фотолитографии
- Performance Evaluation of an optical network based on Optical Cross Add Drop Multiplexer Оценка характеристик оптической сети связи на базе оптических кросс-коммутаторов со спектральным мультиплексированием
- Влияние температуры на люминесценцию молекулярных кластеров серебра в фото-термо-рефрактивных стеклах
- Эллиптичность поперечного сечения стеклянного капилляра, сформированного перетяжкой цилиндрической трубы-заготовки
- Эллипсометрические исследования природной оксидной пленки на поверхности теллурида кадмия.
- Диагностика направления температурного ухода по асимметрии полос в отражающем интерферометре
- Формирование покрытий при одновременном испарении двух диэлектриков